主要技術(shù)指標(biāo):
a、HMDS晶片處理系統(tǒng)主要包括:真空反應(yīng)室,真空系統(tǒng),加熱系統(tǒng),HMDS送液系統(tǒng),控制系統(tǒng),報警系統(tǒng)
b、不銹鋼反應(yīng)室:450mmx450mmx450mm
c、系統(tǒng)真空度:>-100Kpa
d、plc、觸摸屏控制,觸摸屏設(shè)置各種參數(shù)
e、加熱功率:1200W/220V
f、控制方式:自動/手動